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納米壓印支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。
EVG6200 NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著稱,可在最小的占位面積上提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),并具有最高的產(chǎn)能,先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)有半自動(dòng)或自動(dòng)配置,并配有集成的振動(dòng)隔離功能。
長達(dá) 150 毫米的自動(dòng)化全場紫外納米壓印解決方案,采用 EVG 專有的 SmartNIL 技術(shù)
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本,提供了優(yōu)于其他品牌的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。