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簡(jiǎn)要描述:納米壓印支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。
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該設(shè)備支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶(hù)需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專(zhuān)家級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結(jié)果(100納米分辨率)
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