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掩模對準曝光機的試驗方法：1、環(huán)境條件檢查：a、溫度、相對濕度檢查：試驗期間，用精度不低于1級的干濕球濕度計每4h測試一次環(huán)境的溫度，相對濕度。千濕球濕度計應置放在與工作臺高度一致，沒有氣流的地方；b、潔凈度檢查：試驗期間，每4h測試一次潔凈度。選用測試精度能滿足相應潔凈度等級的光學粒子計數(shù)器檢測有效工作區(qū)域的潔凈度；c、地面振動檢查：試驗期間，測試一次地面振動幅度，振動分析儀的拾振裝置應置放于工作臺機座附近。2、外觀檢查：a、用目視法進行外觀質(zhì)量檢查；b、用手感方法檢查移動...

電容位移傳感器是一種非接觸電容式原理的精密測量儀器，具有一般非接觸式儀器所共有的無磨擦、無損磨特點外，還具有信噪比大，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優(yōu)點。在國內(nèi)研究所，高等院校、工廠和軍工部門得到廣泛應用，成為科研、教學和生產(chǎn)中一種*的測試儀器。本產(chǎn)品基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對的被測物體。如果有穩(wěn)定交流電通過傳感器，輸出交流電的電壓會與傳感器到被測物體之間的距離成正比關系，從而可以通過測量電壓的變化得...

光學膜厚儀是一種非接觸式測量儀器，一般會運用在生產(chǎn)廠商大量生產(chǎn)產(chǎn)品的過程，由于誤差經(jīng)常會導致產(chǎn)品全部報廢，這時候就需要運用光學膜厚儀來介入到生產(chǎn)環(huán)境，避免這種情況的發(fā)生。光學膜厚儀的光學機械組件：1、光源：寬光譜光源；2、探測器：高靈敏度低噪音陣列式光譜探測器；3、控制箱：含電路板、控制單元、電源、光源；4、輸出設備：軟件界面支持輸出、輸入光譜數(shù)據(jù)庫。系統(tǒng)特點：1、嵌入式在線診斷方式；2、免費離線分析軟件；3、精細的歷史數(shù)據(jù)功能，幫助用戶有效地存儲，重現(xiàn)與繪制測試結果；4、主...

隨著光學在各個領域當中的應用，使得它也能為測厚行業(yè)里帶來貢獻。其中就有大眾所知的光學膜厚儀。它利用光學的特點，能夠直接檢測出物件涂層、或者是其它物件的厚度。該儀器所使用的原理，便是光的折射與反射。這種儀器在使用時，擺放在物件的上方，從儀器當中發(fā)射了垂直向下的可視光線。其中一部分光會在膜的表面形成一個反射，另一部分則會透過儀器的薄膜，在薄膜與物件之間的界面開成反射，這個時候，薄膜的表面，以及薄膜的底部同時反射的光會造成干涉的現(xiàn)象。儀器便是利用了這樣的一種現(xiàn)象，從而測量出物件的厚...

作為光刻工藝中zuì重要設備之一，接觸式光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發(fā)展。了解提高接觸式光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發(fā)展情況是十分重要的。光刻意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。接觸式光刻機是集成電路芯片制造的關鍵核心設備。光刻機是微電子...