掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的試驗(yàn)方法：

　　1、環(huán)境條件檢查：

　　a、溫度、相對(duì)濕度檢查：試驗(yàn)期間，用精度不低于1級(jí)的干濕球濕度計(jì)每4h測(cè)試一次環(huán)境的溫度，相對(duì)濕度。千濕球濕度計(jì)應(yīng)置放在與工作臺(tái)高度一致，沒有氣流的地方；

　　b、潔凈度檢查：試驗(yàn)期間，每4h測(cè)試一次潔凈度。選用測(cè)試精度能滿足相應(yīng)潔凈度等級(jí)的光學(xué)粒子計(jì)數(shù)器檢測(cè)有效工作區(qū)域的潔凈度；

　　c、地面振動(dòng)檢查：試驗(yàn)期間，測(cè)試一次地面振動(dòng)幅度，振動(dòng)分析儀的拾振裝置應(yīng)置放于工作臺(tái)機(jī)座附近。

　　

　　2、外觀檢查：

　　a、用目視法進(jìn)行外觀質(zhì)量檢查；

　　b、用手感方法檢查移動(dòng)機(jī)構(gòu)的空位及運(yùn)動(dòng)情況。

　　

　　3、安全檢查：

　　a、用自動(dòng)擊穿裝置在500V直流電壓下，測(cè)量初級(jí)線路與機(jī)殼之間的絕緣電阻；

　　b、用自動(dòng)擊穿裝置在1500V，50Hz交流電壓下，測(cè)量漏電流值。試壓1min，觀察有無(wú)擊穿和故電現(xiàn)象；

　　c、用目視法檢查接地標(biāo)志。

　　

　　4、顯微鏡檢查：

　　a、調(diào)節(jié)顯微鏡的目鏡、物鏡，用手感及目視法檢查目鏡、物鏡中心距調(diào)節(jié)性能、光軸平行性，左右視場(chǎng)的齊焦程度以及左右顯微鏡倍率的一致性；

　　調(diào)節(jié)顯微鏡視場(chǎng)亮度，用目視法檢查視場(chǎng)的亮度變化及清晰度；

　　b、調(diào)節(jié)顯微鏡，選擇相應(yīng)分辨率版，通過(guò)能識(shí)別的線寬，檢查顯微鏡的分辨能力是否滿足曝光機(jī)標(biāo)稱分辨率的需要；

　　c、調(diào)節(jié)顯微鏡物鏡與基片相對(duì)位置，用1級(jí)千分表測(cè)量能識(shí)別相應(yīng)線寬的調(diào)節(jié)范圍。此調(diào)節(jié)范圍即為顯徼鏡焦深。

　　

　　5、瞟光系統(tǒng)檢查：

　　a、調(diào)節(jié)曝光燈X，Y、Z方向位置，并檢查啟輝性能；

　　b、開啟噪光燈10min后，選用精度不低于0.33mW/c㎡，測(cè)試波長(zhǎng)為365nm，404.7nm的紫外照度計(jì)檢瀏光強(qiáng)不均勻性；

　　c、開啟瞟光燈，檢查曝光燈是否能連續(xù)工作16h；

　　d、開啟曝光燈2h后，用半導(dǎo)體點(diǎn)測(cè)溫度計(jì)測(cè)量燈室外表溫升。

　　

　　6、曝光量控制檢查：

　　a、光源處于熱穩(wěn)定狀態(tài)后，連續(xù)開啟、關(guān)閉快門40次，檢查快門動(dòng)作。關(guān)閉快門，將涂有500nm正性光致抗蝕劑的基片置于加有簡(jiǎn)單圖形的掩模版及曝光頭下2min，而后顯影，檢查快門是否有漏光現(xiàn)象；

　　b、將定時(shí)系統(tǒng)曝光時(shí)間分別設(shè)置在6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s檔次上，在每設(shè)定時(shí)間下，用測(cè)速儀實(shí)測(cè)三次；

　　c、光源達(dá)到熱穩(wěn)定狀態(tài)后，置曝光量檔次為6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s。在各設(shè)定檔次下，實(shí)測(cè)三次光強(qiáng)和瞟光時(shí)間；

　　d、用照度計(jì)測(cè)量掩模版中心光強(qiáng)值，每1h測(cè)一次，實(shí)測(cè)五次。

 

　　7、微動(dòng)臺(tái)檢查：

　　a、用1級(jí)游標(biāo)卡尺檢測(cè)掃描部件的調(diào)節(jié)范圍，用1級(jí)千分表檢測(cè)板架相對(duì)于顯徼鏡移動(dòng)時(shí)的表面跳動(dòng)量；

　　b、用1級(jí)游標(biāo)卡尺檢測(cè)承片臺(tái)與掩模版的X、Y向相對(duì)調(diào)節(jié)范圍；用1級(jí)千分表檢測(cè)其微調(diào)小步距；

　　c、用精度等級(jí)不低于1’的量角器檢測(cè)平面轉(zhuǎn)動(dòng)部件的粗調(diào)及微調(diào)范圍；

　　d、用1級(jí)游標(biāo)卡尺和1級(jí)千分表檢測(cè)承片臺(tái)垂直升降粗調(diào)及徼調(diào)范圍。用千分表檢瀏接近式曝光的微調(diào)小步距。