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有關(guān)掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)的對準(zhǔn)系統(tǒng),以下有詳細(xì)說明

更新時(shí)間:2020-12-16  |  點(diǎn)擊率:1294
  掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)又名光刻機(jī),用光來制作一個(gè)圖形工藝,將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)復(fù)制到硅片上的過程。半導(dǎo)體制造過程中復(fù)雜也是難的步驟就是光刻,光刻機(jī)也因此成為重要的半導(dǎo)體制造設(shè)備,研發(fā)的技術(shù)門檻和資金門檻非常高,是復(fù)雜的機(jī)器之一。
 
  掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種,手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)
  1、手動(dòng):指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn),對準(zhǔn)精度可想而知不高了;
  2、半自動(dòng):指的是對準(zhǔn)可以通過電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;
  3、自動(dòng): 指的是 從基板的上載下載,曝光時(shí)長和循環(huán)都是通過程序控制,自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對于處理量的需要。

  掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)的對準(zhǔn)系統(tǒng):
  制造高精度的對準(zhǔn)系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機(jī)械工藝,這也是國產(chǎn)設(shè)備*的技術(shù)難點(diǎn)之一,許多美德品牌的設(shè)備具有特殊的機(jī)械工藝設(shè)計(jì)。
  對準(zhǔn)系統(tǒng)另外一個(gè)技術(shù)難題就是對準(zhǔn)顯微鏡。為了增強(qiáng)顯微鏡的視場,許多的設(shè)備,采用了LED照明。
  對準(zhǔn)系統(tǒng)共有兩套,具備調(diào)焦功能。主要就是由雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對。
  CCD對準(zhǔn)系統(tǒng)作用是將掩模和樣片的對準(zhǔn)標(biāo)記放大并成像于監(jiān)視器上。
  工件臺顧名思義就是放工件的平臺,光刻工藝主要的工件就是掩模和基片。
  工件臺為掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)的一個(gè)關(guān)鍵,由掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)臺(XY)、掩模樣片相對運(yùn)動(dòng)臺(XY)、轉(zhuǎn)動(dòng)臺、樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)、樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。
  其中,樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)包括球座和半球。調(diào)平過程中首先對球座和半球通上壓力空氣,再通過調(diào)焦手輪,使球座、半球、樣片向上運(yùn)動(dòng),使樣片與掩模相靠而找平樣片,然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進(jìn)行鎖緊而保持調(diào)平狀態(tài)。
  樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)由調(diào)焦手輪、杠桿機(jī)構(gòu)和上升直線導(dǎo)軌等組成,調(diào)平上升過程初步調(diào)焦,調(diào)平完成鎖緊球氣浮后,樣片和掩模之間會產(chǎn)生一定的間隙,因此必須進(jìn)行微調(diào)焦。另一方面,調(diào)平完成進(jìn)行對準(zhǔn),必須分離一定的對準(zhǔn)間隙,也需要進(jìn)行微調(diào)焦。
  抽拉掩模臺主要用于快速上下片,由燕尾導(dǎo)軌、定位擋塊和鎖緊手輪組成。
  承片臺和掩模夾是根據(jù)不同的樣片和掩模尺寸而進(jìn)行設(shè)計(jì)的。