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單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)的相關(guān)知識(shí)普及

更新時(shí)間:2024-03-12  |  點(diǎn)擊率:1532
  單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶,非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

 

  EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)特征:

  1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸。

  2、臺(tái)式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺(tái)面。

  3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。

  4、分步流程指引。

  5、遠(yuǎn)程技術(shù)支持。

  6、頂部和底部對(duì)準(zhǔn)功能。

  7、高精度對(duì)準(zhǔn)。

  8、自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列。

  9、電動(dòng)的和程序控制的曝光間隙。

  10、支持先進(jìn)的UV-LED技術(shù)。

  11、小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求。

  12、多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同語言)。